湖北武汉电镀介绍铬上再镀硬铬的方法 铬沉积速度很低的解决方法

今天我们会为大家带来介绍铬上再镀硬铬的方法，希望通过我们的介绍让您对武汉富鑫电镀加工有限公司等问题有更深入的了解

铬上再镀硬铬的方法是什么样的呢？武汉镀硬铬厂家告诉您如下：

武汉镀硬铬介绍说铬上镀硬铬，是指零件的尺寸未达到工艺设计要求，或由于磨损而造成尺寸偏差，需要在镀铬层的基体上再补镀一定厚度的铬层。铬上镀硬铬比在基材上直接镀硬铬的工艺要复杂，要求比较高。因为有的零件是刚镀好的，有的放置了很长时间，有的经过了加工和磨抛光。最主要的原因是铬镀层表面在空气中容易形成一层钝化膜。这层钝化膜的存在，影响了第二次镀铬时镀层与基体金属的结合强度，只有将这层钝化膜去掉，才能获得牢固的镀层。铬上镀铬要想达到结合力好的整体镀层，关键要做好镀前处理和对表面的活化。其具体的做法武汉镀硬铬公司介绍如下：

1、脱脂。先用常规方法将零件表面的油污去除干净。经过磨光、抛光和使用一段时间的油污较重的零件，将油污和抛光膏等除净尤为重要。

2、打磨。镀铬层表面有毛刺的需用油石打磨；有的零件因放置时间较长而表面又含有铬酸膜等，用一般方法不易去掉，需用砂纸仔细打磨。

3、预热。将零件挂人槽中后，根据零件的大小选择预热的时间，以缩小零件与镀铬溶液的温差，避免因基体与铬层的膨胀系数不同而出现暴皮、脱落等现象。对于铬上镀铬的零件，这一步骤更为重要。

4、阳极处理。零件表面上都有一层铬，而阳极处理是为了使表面粗糙一些，增加结合力。阳极处理的时间，应根据已有铬镀层的厚度确定，镀层薄一些的，几十秒钟即可；镀层厚一些的，可达2～3min。

5、正常电镀。用阶梯式电流活化铬层，这是整个覆镀过程中最为重要的环节。先用5A／dm2的电流密度处理3～5min，再用10～15min的时间将电流密度逐步增加到20～25A／dm2之间，在此电流密度下再镀l0min方法，介绍铬上再镀硬铬的方法最后转入正常电镀。

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铬沉积速度很低是什么原因？镀铬厂家分析如下：

1、零件悬挂不恰当，彼此互相遮挡；

2、阳极和阴极的距离太大；

3、由于计算表面积发生错误和不镀铬的地方绝缘不好而使电流密度降低；

4、电解液的温度太高；

5、硫酸含量太大；

6、铬酐浓度太大；

铬沉积速度很低的处理方法，武汉镀铬厂家建议如下：

1、改变悬挂的方法；

2、减小阳极跟阴极的距离到30～35mm，最大为50mm。

3、加大电流密度。涂2～3层透明漆膜来绝缘；

4、降低电解液的温度；

5、根据分析结果，利用碳酸钡、氢氧化钡或者铬酸钡来使过剩的硫酸沉淀。

6、用比重计检查，稀释到正常浓度。