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武汉镀铜厂家镀铬的工艺特点有哪些 铬沉积速度很低是什么原因

来源:http://www.whfxdd.com/news/189.html    发布时间 : 2016-11-03

您对“镀铬的工艺特点有哪些 铬沉积速度很低是什么原因”了解吗?今天武汉富鑫电镀加工有限公司要给大家介绍的就是这方面的内容,希望大家通过本文的介绍,可以对镀铬的工艺特点有哪些等方面的内容有一定的认识与了解,下面就一起来看一下相关的介绍吧:

武汉镀铜厂家镀铬的工艺特点有哪些 铬沉积速度很低是什么原因

镀铬的工艺特点有哪些?武汉镀铬公司总结如下:

1、铬容易钝化,因此在很多介质中都很稳定,但镀铬的过程中,阴极会还原出大量的氢气,因此造成阴极电流效率特别低.

2、镀铬采用有很强氧化性的铬酐(CrO3),所以在镀铬过程中必须加局外离子,如SO42-或F-和Cr3 等,才能实现沉淀铬的过程.

3、镀铬采用的电流密度很高,比一般镀种的电流密度高几十倍,槽电压也比其他镀种高出1倍,通常为12V左右.

4、镀铬采用铅-锑或铅-锡合金作不溶性的阳极.

5、镀铬过程中不允许中途停电,温度和电流都必须很稳定.

6、为了保证镀层具有较强的结合力,工件较好先清洗除油且预热.

7、对复杂的零件,为了改善深度的能力,在开始通电时,可采用冲击电流.

8、镀层在0.25μm是微孔性的,其厚度超过0.25μm,铬层便出现网状裂纹,镀层超过20μm时镀铬,镀铬的工艺特点有哪些对基体才能起到机械保护作用.

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铬沉积速度很低是什么原因?镀铬厂家分析如下:

1、零件悬挂不恰当,彼此互相遮挡;

2、阳极和阴极的距离太大;

3、由于计算表面积发生错误和不镀铬的地方绝缘不好而使电流密度降低;

4、电解液的温度太高;

5、硫酸含量太大;

6、铬酐浓度太大;

铬沉积速度很低的处理方法,武汉镀铬厂家建议如下:

1、改变悬挂的方法;

2、减小阳极跟阴极的距离到30~35mm,较大为50mm。

3、加大电流密度。涂2~3层透明漆膜来绝缘;

4、降低电解液的温度;

5、根据分析结果,利用碳酸钡、氢氧化钡或者铬酸钡来使过剩的硫酸沉淀。

6、用比重计检查,稀释到正常浓度。

以上所介绍的几点就是有关“镀铬的工艺特点有哪些 铬沉积速度很低是什么原因”的,相信看了本文的介绍后,对这方面也会有自己的一番认识,以后针对镀铬的工艺特点有哪些等问题也能很好的解决。在这里,我们推荐您多了解公司、武汉挂镀厂家等有关的讯息,希望对您有所帮助!

本文关键词:镀铬 工艺 电流 过程 阴极 采用

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